Equipado com lentes ópticas de foco poli capilares por raios X e um detector de deriva de silício, o FT160 permite alta precisão e alto rendimento na medição da espessura de revestimento em nível nano ordem de peças eletrônicas.
A análise de XRF sempre foi rápida. Mas se você estiver fazendo medições de XRF em um ambiente de produção, saberá que a maior
parte do tempo gasto com seu equipamento de XRF é na preparação e na configuração, não na análise. E com componentes cada vez mais
complexos e menores, especificações rigorosas e a necessidade de inspeção total, cada segundo
é importante.
Equipado com lentes ópticas de foco poli capilares por raios X e um detector de deriva de silício, o FT160 permite alta precisão e alto rendimento na medição da espessura de revestimento em nível nano ordem de peças eletrônicas.
Model FT160S FT160Sh FT160 FT160h FT160L FT160Lh
X-ray source Standard High-energy Standard High-energy Standard High-energy
Mo W Mo W Mo W
Elements Atomic No. 13(Al) to 92(U)
Sample stage (mm) 300(W) × 245(D) 420(W) × 320(D) 620(W) × 620(D)
Maximum sample size (mm) 300(X) × 245(Y) × 80(Z) 400(X) × 300(Y) × 100(Z) 600(X) × 600(Y) × 20(Z)
Segmento de Mercado: Automotiva, Aviação e Afins, Máquinas e Dispositivos, Metal, Fundição e Siderurgia, Serviços de Análises e Laboratório, Universidade e Acadêmico
Nicho de Mercado: Aeronaves, Caminhão e Ônibus, Centro de Pesquisa, Equipamentos Elétricos, Escola Técnica, Indústria Eletrônica, Máquinas e Equipamentos, Material Elétrico, Metalúrgica, Motocicletas, Revestimento Metálico, Serviços Análise Materiais, Serviços Laboratório Geral, Usinagem, Veículos e Automotiva
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